四海翻腾 : 上海中微的28nmDUV光刻机已经进入调试阶段，长光所加油啊 樱落网网友：别造谣好吗？前些日子官方都辟谣了。 樱落网网友：他说的确实有误，目前的基本情况是，1.上海微电子新一代DUV光刻机2020年4季度已完成原型机，将在2021年3季度之前进入量产阶段，以配合中芯京城2022年1季度完成一期生产线的计划并作为第一个一百年的献礼项目，无论逼乎的人如何攻击上微，这两个已知的进度节点是铁板钉钉了。2.中电科的65nm DUV光刻机将在2021年12月前完成初期2台部署，这是涉军项目，具体情况不明，但有可能此系列光刻机并不以民用逻辑IC为主要适用方向。3.由长光所牵头全国联合的EUV光刻机项目的各个分系统已有不少可查进展，目前大致相当于ASML在2013年的水平，要达到7nm大规模使用还需进一步提升有效功率，希望三年内看到成果。
扯一句逼乎脸大的虽多，还没有敢造长光所谣的，最多也就是贬低和胡乱损两句。
2021-01-31 22:20:58 回复
樱落网网友 : 说的光刻机多么先进一样，中国又不是没有光刻机，差的是距离，科技进步带来的速度时间差。 樱落网网友：光刻机制造不是制造技术问题，而是如何突破光刻机上的专利壁垒。 樱落网网友：对，主要是专利问题，人家多次实验试验研发和生产，已经把要踩的坑踩了，都是选取相对来说最优的技术解决路线和生产方式，这个过程会有很多专利，中国研发的要商用就要避免这些专利，很麻烦的，这就是先发优势。比如手机OLED 屏幕，三星屏幕发光点排列是钻石序列，中国京东方的为了避开专利，只能采用显示效果差些的"周冬雨"排列 樱落网网友：可研发人员中国是培养的（近润式光刻机原理是台湾的一个人发明的，技术人员不是科技大的就是北大清华的或别的中国顶尖学校培养出来的），而它们的资本是略夺全世界的其中很大一部分是剥削我们的，这就是抢你的钱，然后用所抢的钱吸引你培养的人才，而产生的成果是强盗的，强盗在用所谓知识产权更加洗劫你。
2021-01-31 14:35:23 回复
